現貨供應 TZZN-1000小型離子濺射儀（磁控）

注明：本型號為(wei) 磁控，與(yu) 進口的差不多，適合客戶放大倍數高，

此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀(yi) 主要用於(yu) SEM製樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀(yi) 器性能穩定，操作簡單方便。采用磁控冷態濺射，基本不升溫，限度保護樣品。

主要特點:

² 顯示操作麵為(wei) 30°斜麵，充分考慮操作的便捷和視覺體(ti) 驗，方便觀察操作；

² 真空泵連接管路為(wei) 金屬波紋管，美觀耐用；

² 微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；

² 真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

² 控製電路為(wei) 控製板，工作穩定可靠；

² 顯示控製操作部分布局合理，位於(yu) 同側(ce) ，使用方便；

² 磁控冷態濺射，基本不升溫，限度保護樣品；

技術參數:

1.樣品室空間：直徑120mm×高110mm

2. Pt靶為(wei) 標配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm

3.獨立真空控製電路設計，實現真空度和濺射電流，安全互鎖，可調電流40mA；

4.侵入式磁控低溫離子源，可快速更換靶材，環繞暗區護罩；

5.使用獨立計時控製器，精準計時，可調設置範圍:1-500秒，連續可調

6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控製

7.進口真空泵，抽速8.5m3/h，噪聲不大於(yu) 48dB,可置於(yu) 抗震台上，全金屬集成耦合係統

8.微型真空氣閥：高精度微量流量閥，精度±0.1Pa