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離子濺射儀(yi) 是依據二(DC)直流濺射原理設計而成的，、可靠、經濟的鍍膜設備。適用於(yu) 電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品製備，非導體(ti) 材料實驗電製作。
1.靶（上部電）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm 純度：99.999%
2、真空室：直徑：160mm，高：110mm
3.樣品台（下部電）：濺射麵積：直徑：50mm
4．工作真空： 2×10-1—8×10-2 mbar
5.離子電流表：電流：50mA
6.計時器：根據濺射習(xi) 慣設定單次濺射時間
7.電壓：-1600DVC
8.機械泵:2升/每秒
9.工作室工作媒介氣體(ti) ：空氣或氬氣
10．真空氣閥： 配有氬氣進氣口和微量充氣調節
，可連接φ4×2.5mm軟管
產品盛大來襲Value should not be missed |
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